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电子束蒸发系统
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在认可了膜厚测控系统的精度并且真空获得及测
控系统也能在整个镀膜过程中提供一个稳定的背景气
压环境以后,蒸发系统是否能在整个镀膜过程中提供
稳定的蒸发分布,这对于镀膜产品的光谱指标和成品
率就至关重要了。 对于现代光学薄膜的镀膜生产,电子枪不但要提
供一个蒸发功率,更重要的是提供一个稳定的蒸发分
布。 三束公司 SEL 系列电子枪是目前国内坩埚盘最大
的电子枪,坩埚盘上设置圆形和弧形两种坩埚槽。弧
形坩埚槽容量大,通常用于SiO2材料的蒸发,蒸发时
坩埚盘往复移动,膜料表面在整个镀膜过程中保持平
坦,从而保证蒸发分布稳定。 三束公司电子枪万能波形扫描系统为电子束位置
扫描提供纵横两个方向的驱动输出,波形可任意设定,
并且具有光斑形状修正功能,可在希望的范围内使膜
料得到均匀的蒸发,确保膜料表面平整。 SEL 系列电子束蒸发系统的功率单元和坩埚驱动
单元可受控于石英晶体膜厚控制仪,能实现成膜速率
控制和镀膜过程的自动化。
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◆基本技术参数 |
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◆型号与配置 |
(注: □表示坩埚盘直径,180或220。) |
| 功 率 |
6KW |
| 负高压 |
10KV,8KV 或 8KV,6KV |
| 电子束流 |
0~600mA |
| 电子束偏转角度 |
270° |
| 坩 埚 |
Φ180坩埚盘 |
3×φ40mm+36×240mm弧形 |
Φ220坩埚盘 |
3×φ50mm+46×297mm弧形 |
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| 型 号 |
基 本 型
SEL-□ |
精 密 型
SEL-□W |
高级精密型
SEL-□ WC |
| 功率控制 |
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| 扫描 |
正弦波扫描 |
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| 万能波形扫描 |
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| 坩埚
挡板
驱动
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人工控制自动驱动 |
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人工或晶控控制 自动驱动 |
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