<%@LANGUAGE="VBSCRIPT" CODEPAGE="936"%> 电子束蒸发系统

     在认可了膜厚测控系统的精度并且真空获得及测
控系统也能在整个镀膜过程中提供一个稳定的背景气
压环境以后,蒸发系统是否能在整个镀膜过程中提供
稳定的蒸发分布,这对于镀膜产品的光谱指标和成品
率就至关重要了。
     对于现代光学薄膜的镀膜生产,电子枪不但要提
供一个蒸发功率,更重要的是提供一个稳定的蒸发分
布。
     三束公司 SEL 系列电子枪是目前国内坩埚盘最大
的电子枪,坩埚盘上设置圆形和弧形两种坩埚槽。弧
形坩埚槽容量大,通常用于SiO2材料的蒸发,蒸发时
坩埚盘往复移动,膜料表面在整个镀膜过程中保持平
坦,从而保证蒸发分布稳定。
     三束公司电子枪万能波形扫描系统为电子束位置
扫描提供纵横两个方向的驱动输出,波形可任意设定,
并且具有光斑形状修正功能,可在希望的范围内使膜
料得到均匀的蒸发,确保膜料表面平整。
     SEL 系列电子束蒸发系统的功率单元和坩埚驱动
单元可受控于石英晶体膜厚控制仪,能实现成膜速率
控制和镀膜过程的自动化。
基本技术参数
  型号与配置
(注: □表示坩埚盘直径,180或220。)
功 率
     6KW
负高压
     10KV,8KV 或 8KV,6KV
电子束流
     0~600mA
电子束偏转角度
     270°
坩 埚
Φ180坩埚盘
     3×φ40mm+36×240mm弧形
Φ220坩埚盘
     3×φ50mm+46×297mm弧形
 
型 号
基 本 型
SEL-□
精 密 型
SEL-□W
高级精密型
SEL-□ WC
功率控制
扫描
  正弦波扫描
  万能波形扫描
坩埚
挡板
驱动
  人工控制自动驱动
  人工或晶控控制
   自动驱动

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